RU
CN
BY
EN
Филиал «Завод полупроводниковых приборов» ОАО «ИНТЕГРАЛ» - управляющая компания холдинга "ИНТЕГРАЛ". Производство «ФОТЭК»
(+375-17) 360 10 60 – начальник производства ФОТЭК
(+375-17) 271 15 16 – зам. начальника производства ФОТЭК
факс: 224 60 51, 338 12 94 (для производства ФОТЭК)
E-mail: STarasevich@integral.by , SBunas@integral.by
| Наименование изделий | Спецификации |
|
Промежуточные шаблоны для установок проекционной печати на кремний в масштабе 10:1 |
1. Тип маскирующего слоя - хром 2. Минимальный элемент – 4 мкм Разброс ± 0,15 мкм 3. Максимальный размер дефекта – 2,0 мкм; 1,5 мкм; 1,0 мкм 4. Точность совмещения в комплект масок - 0,8 мкм 5. Размеры стекла: 127 х 127 х 2,6 мм (5˝кв. x 0,090″) – кальций-натриевое 127 х 127 х 2,6 мм (5˝кв. x 0,090″) – кварц 153 х 153 х 2,6 мм (6˝кв. x 0,090″) – кальций -натриевое |
| Промежуточные шаблоны для установок проекционной печати на кремний в масштабе 5:1 |
1. Тип маскировочного слоя - хром 2. Минимальный элемент – 2 мкм Разброс ± 0,10 мкм 3. Максимальный размер дефекта – 2,0 мкм; 1,5 мкм; 1,0 мкм 4. Точность совмещения в комплекте масок – 0,6 мкм 5. Размер стекла: 127 х 127 х 2,6 мм (5˝кв. x 0,090″) – кальций-натриевое 127 х 127 х 2,6 мм (5˝кв. x 0,090″) – кварц 153 х 153 х 2,6 мм (6˝кв. x 0,090″) – кальций-натриевое 152 х 152 х 6,35 мм (6˝кв. x 0,250″) - кварц |
| Рабочие шаблоны для контактной и проекционной литографии в масштабе 1:1 |
1. Тип маскировочного слоя - хром, оксид железа 2. Минимальный элемент – 1,0 мкм Разброс ± 0,10 мкм 3. Точность совмещения в комплекте ± 0,6 мкм 4. Размер стекла: 102 х 102 мм (4″кв. x 0,090″) 127 х 127 мм (5″кв. x 0,090″) 153 х 153 мм (6″кв. x 0,090″) |
|
Дополнительные возможности при изготовлении шаблонов |
1. Конфигурация распечатки рабочего поля – по желанию заказчика 2. Возможность распечатки на одном шаблоне любого количества вариантов топологии |
|
Шаблонные заготовки: |
1. Размеры заготовок 102 х 102 х 2,6 мм 127 х 127 х 2,6 мм 153 х 153 х 2,6 мм 2. Тип стекла: кальций-натриевое, кварц 3. Типы маскирующего слоя: хром, окись железа 4. Типы резиста: позитивный фоторезист, позитивный электронорезист |
| Напыление покрытий | Материалы покрытий: серебро, никель, ванадий, алюминий, хром |
| Оптические защитные мембраны |
1. На собственных рамках 2. На рамках заказчика 3. Для длин волн 365 нм, 405 нм и 436 нм 4. Пропускание 99±1% |
ОАО "ИНТЕГРАЛ" также предлагает изготовление ИМС и полупроводниковых приборов на основе конструкции Заказчика (поставка по результатам функционального контроля), услуги полупроводникового производства - выполнение отдельных технологических операций или блоков операций (напыление металлов, осаждение пленок, выращивание эпитаксиальных слоёв, утонение обратной стороны пластины и т. п.), изготовление исходных кремниевых подложек по спецификации Заказчика, сборка и измерение приборов в пластмассовых и металлокерамических корпусах.